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真空(kōng)爐氣體沉積(jī)真空爐氣體沉積技術: 氣相沉積是通過利用氣相中發(fā)生(shēng)的物理和(hé)化學過程在工件表(biǎo)麵上形(xíng)成功能性或裝飾性金屬,非(fēi)金屬或化合物塗(tú)層。根據成(chéng)膜機(jī)理,氣相沉積技術可分為化學氣相沉積,物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。目前,可以使用(yòng)物理(lǐ)或化學氣(qì)相沉積法(fǎ)製備鎢塗層,或者可以將氣相沉積(jī)法與其他製備技術結(jié)合以改善鎢(wū)塗層的性能。 化學氣相沉積 將工件放入真空爐反應室中,抽真空並將其加熱到900〜1100C。如果要塗覆TiC層,則(zé)將鈦與揮發性氯化物(例如TiCl4)和氣態(tài)烴(例如CH4)一(yī)起(qǐ)引(yǐn)入反應室。此時,TiC將通過化(huà)學反(fǎn)應在工件表麵上形成並沉積在工件表麵上,以形成6-8微米厚的塗層。在(zài)氣相沉積和電鍍之後,將工(gōng)件淬火和回火。表麵硬度可達2000〜4000HV。 物(wù)理氣相沉積 物理氣相沉積(PVD)是一(yī)種蒸發,電離或濺(jiàn)射的(de)過程,會產生金屬顆粒並與反應性氣體發生反應,從而形成(chéng)沉積在工件表麵(miàn)的(de)化合物。物理氣象沉積方法包括真空(kōng)電鍍,真空濺射和離子(zǐ)電鍍。目前,離子鍍被廣泛使用。離(lí)子(zǐ)鍍是通過惰性氣體的輝光(guāng)放電來蒸發和蒸發鍍層材料(例如鈦(tài))。電場使離子加速,從而以更高的(de)能量轟擊工件表麵。此(cǐ)時,如果(guǒ)引入反應氣體(例如CO2和N2),則可以在工件表麵(miàn)上(shàng)獲(huò)得TiC和TiN塗層。TiC和TiN塗層的(de)硬度高達2000 HV。離子鍍的重要特征是(shì)沉(chén)積(jī)溫度僅為500℃左右,並且(qiě)塗層具有很強的附著力。適用於高速鋼工(gōng)具,熱鍛模等。 Last真空爐的每個部件都是必不可少(shǎo)的!Next真空爐熱調試注意事項 |